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條縫塗布(bù)技術:從接觸式到無背輥的(de)突(tū)破

  • 2025-12-17

條縫(féng)塗布作(zuò)為預計量塗布技術(shù)的標杆,憑借高塗液利用率、優異塗層均勻性及超(chāo)薄/非(fēi)連續塗布適配能力,已成為鋰電池、OLED、高端光學膜等高端製(zhì)造領域的(de)核心工(gōng)藝支撐。其技(jì)術內(nèi)核在於(yú)通過精密(mì)模頭構建“精準分配-穩定成膜”體(tǐ)係(xì),塗布量可通過供料量與基材速度的比值預設,搭配高精度閉(bì)環控製,精準匹配高附加值產品的嚴苛塗布(bù)要求。本文從核心原(yuán)理、工藝迭(dié)代、產業應用三大維度,解析其技術價值與產業化賦能邏輯。




一、核心原理:精密控(kòng)釋的成膜邏輯

條縫塗布的成膜邏輯可概括為“三段(duàn)式精密控釋”:塗液先注入模頭貯液分配腔完成(chéng)初步(bù)緩存,再經狹(xiá)縫通道的限流與剪切作用實現橫向勻化,最終從(cóng)高(gāo)精(jīng)度唇片以連續均勻液膜形態鋪展於基(jī)材表麵。作為典型的預計(jì)量(liàng)塗布技術,其塗(tú)布量由供料量與基材運(yùn)行速度的比值直接決定,因(yīn)此需配備高精(jīng)度無脈衝計量泵,確保供料壓力與流量的穩定性。超薄塗層的製備則依賴“間隙調控+負壓協同”雙機製,而塗層均勻性需平衡模頭精度(唇片結構設計、微(wēi)米級加工精度)、塗液物性(流變特性、表麵張力)及(jí)工藝參(cān)數(塗布間隙、負壓值、基材車速)三大核心要素。當前超精密模頭已(yǐ)實現1μm/m橫向平直度、RZ<0.1μm表麵粗糙度的嚴苛指標,為高端塗布提供核心硬件保障。

二(èr)、工藝演進:從接觸式到無背輥的突破

基於基材支撐方(fāng)式的差異,條縫塗布(bù)形成兩大工藝路徑,實現從基礎到高端(duān)的全場景覆蓋。背輥接觸式通過背輥支(zhī)撐基材來控製(zhì)塗布間隙,適配精度(dù)要求較低、基材潔淨度易管控的場景,但受背輥平直度、軸承(chéng)跳動量的影響較大(dà),且微小塵埃易引發塗布缺陷(xiàn)。基材張力(lì)控製型(TWSC)則突破(pò)背輥依賴,通過供料壓力與基材張力(lì)的彈性流體動力(lì)學平衡維持穩(wěn)定間隙,由日本富士(shì)率先應用於磁帶0.2μm超薄塗層(céng)製備,經技術迭代後已實現0.4-1.2μm超薄塗布的穩定量產(chǎn)。此外,通過模頭流道內(nèi)置阻塞(sāi)片或供料係統精準(zhǔn)啟停控製,可實現條幅、間歇等非連(lián)續塗布(bù),完美適配(pèi)光刻膠塗布、鋰電池電極方塊排列等特殊形態需求。

三、核心應用:賦能高端製造升級

條縫塗布的高精度特性使(shǐ)其深度融入多領域高端製(zhì)造鏈路,成為降本增效的關鍵抓手。在(zài)OLED領域,其通過重構器件結構,將空穴(xué)注入/傳輸層設(shè)為公用層並(bìng)實現連續塗布,相(xiàng)較傳(chuán)統蒸(zhēng)鍍工藝,不僅使製程成(chéng)本降低50%,還大幅減少材料損耗,同時適配大(dà)尺(chǐ)寸顯示器量產及OLED照明器件的低成本開發。在高端防(fáng)反射膜製造中,通過(guò)精準調控(kòng)塗液粘度(≤2.0mPa·sec)、表麵張力(19-26dyne)及塗布參數,可(kě)實現200nm以下超薄多層塗層的一次成型,精準保障膜層光(guāng)學性能一致性。

在鋰電池領域,條縫塗布通過閥門精準切換實(shí)現間歇方塊式塗布,精準匹(pǐ)配電極工業化(huà)組裝需求。針對間歇塗布易出現的始末端厚度不均、末端厚邊(biān)等問題,行業龍頭企業開發模頭分配腔(qiāng)直接控料技術,有效減少供料滯後,提升塗布一致性;同時可實現雙(shuāng)麵條帶同步塗布,保障(zhàng)條帶(dài)對齊精度(dù),避(bì)免電池能量(liàng)密度(dù)失衡。
關鍵詞:鈣鈦礦塗布機
四、總結展(zhǎn)望
憑借高(gāo)精(jīng)度、高適配性、高物料利用率的核心優勢,條縫塗布已完成從基礎(chǔ)工藝到高端製造核心支撐的技術跨(kuà)越。未來,隨著高端製(zhì)造對塗(tú)層精度、生產效率的要求持續升(shēng)級,條縫塗布將向更精密的模頭結構設計、更智能的工藝閉(bì)環控製、更(gèng)廣泛的材料適配範圍方向(xiàng)突破,通過與材料配方、設備自動化技術的深度協同,進一步拓展(zhǎn)應用邊界,為(wéi)更(gèng)多高附加值產品的產業化落地提供關鍵工藝支撐。

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